2018年我国高纯溅射靶材行业市场规模分析预测 |
[ 来源: | 作者:本站 | 发布时间:2018-07-18 | 浏览:472次 ] |
2018年我国高纯溅射靶材行业市场规模分析预测【图】
2018年01月09日 13:33字号:T|T
按照应用领域不同，电子溅射靶材可以分为半导体靶材、平面靶材、镀膜玻璃靶材、太阳能光伏靶材等，不同应用领域对金属材料的选择和性能要求存在一定的差异，其中半导体集成电路用的溅射靶材技术要求最高，最苛刻。 靶材的主要种类与用途
数据来源：公开资料整理 相关报告：智研咨询发布的《2017-2023年中国高纯溅射靶材市场调查研究及投资机会分析报告》 溅射靶材产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节，其中，靶材制造和溅射镀膜环节是整个溅射靶材产业链中的关键环节。高纯溅射靶材制造环节技术门槛高、设备投资大，具有规模化生产能力的企业数量相对较少，主要分布在美国、日本等国家和地区，其中，部分企业同时开展金属提纯业务，将产业链延伸到上游领域；部分企业只拥有溅射靶材生产能力，高纯度金属需要上游企业供应。尤其是半导体用溅射靶材领域，是一个被由美国和日本的少数公司（日矿金属、霍尼韦尔、东曹、普莱克斯）等跨国公司垄断的行业。 由于下游产业蓬勃发展，溅射靶材的市场需求量也在快速提高，尤其是制作工艺更高的高纯溅射靶材（纯度：99.9%-99.999%），更是供不应求，呈现高速增长的势头。2020年全球溅射靶材的总市场规模将超过160亿美元，而高纯溅射靶材市场规模年复合增长率可达到13%。高纯溅射靶材主要对应平板显示、半导体、记录媒体与太阳能电池四大领域。 全球高纯溅射靶材市场规模
数据来源：公开资料整理 在半导体领域，根据数据，2015年全球市场规模为13亿美元（其中晶圆制造领域6.3亿美元，封测领域5.5亿美元），占全球高纯靶材市场的12%。受益于近年来中国集成电路制造和封测产业的快速发展，中国大陆半导体靶材市场规模呈现快速增长，2015年市场规模为11.5亿元。 2012-2017年全球半导体高纯靶材市场规模（亿美元）
数据来源：公开资料整理 2011-2016年中国半导体靶材市场规模
由于高纯溅射靶材对材料的纯度、稳定性要求极高，因此属于技术密集型产业，对供应商的技术能力要求苛刻，目前主要被日本和美国企业所垄断。 数据来源：中国产业信息网 |
